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第二十一章 真空鍍膜(下)(2 / 2)

……

一小時後。

真空計示數達到52e5帕,升溫程序也進入第二階段,一切正常。

十二分鐘後。

溫度示數達到400攝氏度,膜厚儀顯示的實時蒸鍍速率,在001至001埃每秒之間波動,膜厚顯示仍為000埃。

三分鐘後。

溫度示數繼續增加,直至480攝氏度左右,蒸鍍速率開始在000至003埃每秒之間波動。

當溫度達到520攝氏度後,蒸鍍速率維持在020至030埃每秒。

許秋先開啟樣品台旋轉,在等待了約十秒鐘後,同時打開樣品擋板並將膜厚儀的膜厚計數器歸零。

鈣要蒸鍍10納米的厚度,也就是100埃。

待膜厚儀示數達到100埃時,許秋迅速關閉樣品擋板。

隨後,他將束源爐升溫數控裝置關閉,讓束源爐自然降溫。

最後,將膜厚儀的參數改為鋁的參數。

半小時後。

束源爐的溫度降低至77攝氏度。

許秋關閉鈣的束源爐擋板,打開電流加熱裝置。

這個加熱裝置很簡單,就是把電源、鎢簍、電位器(類似於滑動變阻器)、保險絲、電流計連在一起,通過調節電位器,便可以改變電路中的電流大小。

許秋緩慢扭動電位器的旋鈕,使電流計示數從0逐漸增加至18安培。

當電流達到16安培時,膜厚儀上蒸鍍速率開始有了示數。

電流達到18安培後,許秋等待了幾秒,然後同時打開樣品擋板並清零膜厚儀的膜厚計數器。

蒸鍍速率則先是從02、03迅速提升至30,隨後迅速回落至18,之後緩緩下降至17,16埃每秒……

電流計的示數也會隨著時間變化,忽上忽下。

每當其相較於18的偏離值超過1時,許秋就將其調至18。

鋁的厚度要求是100納米,也就是1000埃。

待膜厚儀示數達到1000埃時,許秋迅速按下樣品擋板。

然後緩緩扭動電位器,將電流歸零。

接著關閉超真空擋板閥,停止分子泵。

等待十分鐘後,分子泵轉速從27000r降至0,關閉其開關。

最後,關閉機械泵,關閉總控台。

…………

“終於結束啦!”許秋長籲了一口氣,感慨道。

“這麼多操作,居然零失誤,厲害呀!”陳婉清豎起了大拇指。

“這都是學姐教的好。”許秋道。

“行啦,彆謙虛了,你的科研天賦我心裡有數呢。

想想我當初學蒸鍍,可是沒少讓魏老師頭疼,不是忘記開空氣泵,就是忘開擋板,甚至還有一次忘記放基片了。”陳婉清道。

聽到最後一句,許秋沒忍住笑了出來,然後看到學姐睜著大眼睛瞪著他,他趕緊把笑容收斂住,麵色嚴肅的向手套箱走去。

他進入手套箱,旋開艙門上下的旋鈕,開始拉艙門。

咦,艙門怎麼拉不下來?

琢磨了一會兒,許秋懂了,因為蒸鍍結束後,艙體內部還是真空狀態。

於是他轉頭看學姐,可她似乎並沒有主動解答的意思,還是瞪著他。

“這麼記仇啊。”許秋心想。

他隻好問道“學姐,這個怎麼弄?”

陳婉清指了指手套箱側麵,最後還是告訴了許秋

“那邊有一個接通氮氣瓶的閥門,可以往蒸鍍艙內充氮氣。”

許秋走過去,果然發現一個閥門。

他輕輕旋開閥門,“嘶嘶”的氣流聲傳來。

10秒後。

20秒後。

30秒後。

沒什麼動靜啊。

“學姐,什麼時候停下來呢?”許秋忍不住問道。

“繼續放氣。”陳婉清麵無表情道。

“哦。”

40秒後。

50秒後。

60秒後,正當許秋打算再次發問時。

“砰!”



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