我有科研輔助係統！
之後的幾天，許秋又做了兩批器件，一批是重複en基片的，另一批是在同樣實驗條件下玻璃基片的。
tb7th體係中，en基片的最高效率提高了一點點，達到了820。
而玻璃基片下的標準樣品，最高效率可達1026。
這個數值，相比於他之前在模擬實驗室中得到的1068，稍差一些，可能是器件結構不同造成的。
en基片不能高溫熱退火，所以用的是edot:ss傳輸層的正常結構，而之前使用的是氧化鋅傳輸層的倒置結構。
此外，雖然重點在於tb7th體係，但是許秋也做了3ht體係。
主要是為了讓文章數據更加豐滿一些，同時也說明這種柔性襯底的加工方式具有普適性。
再之後，許秋完成了各種表征測試，包括光吸收光譜、熒光光譜、celiv測試等，還拍了一張用兩隻鑷子彎曲en基片器件的照片。
在實驗進行的間隙，許秋也在同步以論文的形式，寫項目的結題報告。
這個時候，他前期閱讀了大量的文獻的優勢就體現出來了，再加上他還可以隨時向學姐請教。
因此論文寫起來壓力並不大。
正文部分，許秋先將四組器件編號，en基片的tb7th、3ht體係，分彆為1、3，玻璃基片對應的體係分彆為2、4。
然後，主要就是比較玻璃和en這兩種基片的不同，對器件性能的影響，並分析其可能的原因。
像是光學性能，光吸收光譜和熒光光譜都是直接測有效層薄膜的，數據對兩種基片的器件都是一樣的。
所以不需要比較，直接將得到的圖片信息轉化為文字就可以了。
比如1、2有效層共混薄膜的主要光吸收範圍在550750納米，最高吸收峰位置在680納米處，3、4的主要光吸收範圍在300600納米，最高吸收峰位置在530納米處。
熒光光譜則相對複雜一些，兩種體係都需要分彆測試給體、受體單獨組分薄膜和共混薄膜的熒光光譜，然後計算熒光淬滅效率。
不過，同樣是看圖說話，也沒什麼難度。
而像是celiv，則是對電池器件進行表征，那麼不同樣品編號的器件測試的結果就會有所不同，就需要進行比較分析。
許秋的測試結果
1的載流子遷移率是12e4厘米平方每伏秒，2是25e4厘米平方每伏秒，顯然2更高一些，但兩者在同一數量級。
因為2對應的電池器件性能更好，就可以解釋為，載流子遷移率的提高導致了器件性能的提高。
進一步，還可以繼續分析下去，比如遷移率的提高會減小電荷複合情況，增大短路電流密度等等。
但如果反過來，假如他的測試結果為
2是12e4厘米平方每伏秒，1是25e4厘米平方每伏秒。
那麼就可以一筆帶過，說兩者載流子遷移率相差不大，在同一個數量級，或者說載流子遷移率對器件光電性能的影響不大。
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許秋最開始閱讀文獻的時候，就時常疑惑，對於同樣的一個實驗現象，為什麼有的人說是xxx原因，有的人說是yyy原因，還有人說是xxyy原因，難道學術界裡就沒有一種統一的觀點嗎？
後來，隨著文獻閱讀量的提升，他逐漸明白了其中的道理。
材料，或者說所有的實驗學科，所有對實驗結果的解釋其實都是猜想，理論永遠是落後於實驗的。
不可能憑空創造一個完美的理論模型，如果那樣的話，直接開幾台超算，算出最優結果就行了。
真實情況是，研究者們需要通過不斷的實驗，得到大量的實驗數據，然後通過這些實驗數據，來建立起一套理論體係。
但即使這樣建立的體係，可能還是存在很多問題，需要不斷的給理論打補丁。
同時，其中還會有很多現象難以解釋，這個時候，行業大佬們就會提出很多種觀點。
而其他研究者們在發表論文時，也會對這些現象進行討論，提出自己的觀點。
這個過程就類似於辯論。
最終，學術界可能隻剩下一種統一的觀點，也可能會有多種觀點並存，抑或者在將來又有新理論將之前的理論完全推翻。
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