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第462章 葉海亞考察(1 / 1)

6月7日,“光刻聯盟”公司召開成立大會的第三天,公司總經理葉海亞就開啟了第一次實地考察之旅。

要讓“光刻聯盟”公司的願景得以實現,作為公司運營的最高決策者,葉海亞不能夠沒有第一手信息。從另一個角度講,要把聯盟內的十家牛逼哄哄的企業擰成一股繩,不是散沙一盤,還真的要下一番功夫。舉個例,資金如何分配,如何製定光刻機關鍵技術的時間節點……這些都不可能一拍腦門子。

先技術後管理,這是葉海亞給自己構想的工作思路。畢竟,在光刻機這個領域,人們更在乎技術,有了先進的技術,才談得上管理。

葉海亞選定考察的第一家企業是路維光電,臨行前,葉海亞給柏榮耀打了個電話。

光掩模是半導體製造過程中的關鍵部件,用於將設計圖形轉移到光刻膠上,進而製造出芯片或顯示器。對於集成電路用途的光掩模,下遊晶圓廠客戶再通過微影製程技術,把光罩上的電路圖案轉換到半導體晶圓上。通俗的理解,光掩模的功能類似於傳統照相機的“底片”。

路維光電公司的核心產品主要就是光掩膜,公司於2019年成功建設g11掩膜版產線,成為國內第一家、世界第四家掌握g11高世代掩膜版生產技術的本土企業。路維光電能夠全麵配套不同世代麵板產線(g25—g11),並成功突破超高世代掩膜版製造技術、高世代高精度半色調掩膜版製造技術和光阻塗布技術,打破了國外廠商的長期壟斷。

葉海亞本次考察路維光電的目的有兩個:一是摸摸底,看看路維光電的光掩模技術究竟如何。二是落實關鍵技術節點,劃撥研發資金。

考察較為順利,葉海亞參觀了路維光電公司最新的實驗成果和最先進的生產線。參觀後的的座談會上,柏榮耀給葉海亞較為全麵的介紹了當今全球光掩模行業的發展現狀,大漂亮的福尼克斯公司是全球最大的行業龍頭老大,曆史悠久,技術領先。路維光電和福尼克斯相比,技術差距已經由相差20年縮小到5年,相信在加強資金投入的狀況下,路維光電能夠在未來兩年內追上福尼克斯的技術。

葉海亞知道,福尼克斯很早就在兔子家開辦公司,就在京城。

葉海亞做了總結性發言,他講到,路維光電公司是國內光掩模行業的頂級企業,應當在國產光刻機崛起的過程中扮演極為重要的角色。剛才我了解到路維光電的技術實力,也聽到了柏總的介紹,讓我對光掩膜這個行業現狀有了一個基本的認識。雖然路維光電的技術離全世界最頂尖的技術還有一些差距,不過不要緊,我相信由光刻聯盟這家公司作後盾,提升路維光電公司在光掩模方麵的技術不是問題。

接下來,葉海亞和柏榮耀具體討論了資金問題,雙方達成初步協議:光刻聯盟反向路維光電注資20億,擁有10的股份。這樣一來,路維光電算是和光刻聯盟深度捆綁。

在結束對路維光電的考察之後,葉海亞繼續向下一站長春國科精密出發。長春國科精密副董事長、光刻聯盟公司董事於在洪提前得到行程消息。

長春國科精密前身為中國科學院長春光學精密機械與物理研究所超精密光學工程研究中心。其核心產品主要包括高端投影光刻機曝光光學係統和超精密光機製造與檢測設備。公司成立於2014年8月,公司總部位於吉林省長春市,並在滬市設有投影光刻照明係統研發事業部。

長春國科精密公司在極大規模集成電路光刻投影光學、顯微光學、多光譜融合成像探測、超精密光機製造等領域有著超高技術研究,並開展相應高端光學儀器與裝備產品的研發工作,並建成了價值高達5億元的超精密光機係統研發與製造平台。

公司曆年承擔國家科技重大專項核心光學項目,如ic製造高端投影光刻機曝光光學係統產品的研製,標誌著我國超精密光學技術已躋身國際先進行列。此外,長春國科精密公司還承擔了等多種類型高端ic製造投影光刻機曝光光學係統的技術研發及產業化推進工作。

可以說,在國內,在複雜精密光學儀器開發與製造行業,無人能出其右者,是當之無愧的行業老大。

長春國科精密副董事長、光刻聯盟公司董事於在洪對葉海亞總經理的到來表示熱情歡迎。他帶領葉海亞參觀了國內最大的頂尖的超淨廠房,參觀了那個價值高達5億元的超精密光機係統研發與製造平台。

在會談階段,於在洪彙報了長春國科精密近幾年在光刻機曝光係統方麵取得的重要突破:公司研製的國內首套數值孔徑075的arf曝光係統epolitha075已經成功交付用戶,實現了整機曝光分辨率85納米的理想結果,進一步提升了我國超精密光學技術的國際地位。

同時,長春國科精密在超精密光學技術方麵的有著深厚的積累,掌握了超精密光機係統協同設計、超精密機械結構設計、全頻段亞納米精度光學加工與檢測等關鍵技術。公司的arf曝光係統實現了全視場平均波像差優於4納米、全視場平均畸變優於57納米的核心指標。

葉海亞則對長春國科精密取得的各項令人側目的成績表示祝賀,他強調,光刻機曝光係統是光刻機的關鍵技術,希望長春國科精密公司在最求世界最頂尖的光學設備方向繼續奮鬥,為把我國國產高端光刻機早日麵世而勤奮努力。

在技術指標方麵,葉海亞向於在洪提出了“光刻聯盟”的要求:長春國科精密新一代曝光係統出台時間不得晚於2023年年底,必須適配5納米芯片製程。為此,“光刻聯盟”將撥付10億元作為增強研發一期經費。

隨後,雙方簽署撥款協議,於在洪協議中鄭重承諾:長春國科精密新一代曝光係統將按照協議約定,準時保質交貨。

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